仪器设备基本信息
设备名称: 电子束光刻机
仪器型号: CABL-9000C
所属企业:
所属类别: 仪器
设备原值: 700
制造厂商: CRESTEC
生产国别: 日本
购置日期:
服务方式: 对外服务
仪器设备详细指标
主要技术指标: 技术参数: 电子束光刻系统/电子束直写系统/电子束曝光系统 1.最小线宽:小于10nm(8nm available) 2.加速电压:1-50kV 3.电子束直径:小于2nm 4.套刻精度:20nm(mean+2σ) 5.拼接精度:20nm(mean+2σ) 6.加工晶圆尺寸:4-8英寸(standard),12英寸(option) 7.描电镜分辨率:小于2nm
功能/应用范围: 纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供尖端的电子束纳米光刻(EBL)系统,或称电子束直写(EBD)、电子束爆光系统。CABL-9000C系列最小线宽可达8nm,最小束斑直径2nm,套刻精度 20nm(mean+2σ),拼接精度 20nm(mean+2σ)。
服务领域: 3②
技术特色:
联系方式
联系人: 张亮亮
联系方式: 13772544959